1. 교육목표
○ 교육목표: 반도체 공정 중 하나인 E-beam Lithography(이빔리소그라피)의 이론 교육을 통해 원리를 이해하고 실습 교육을 통해 장비에 대한 이해도 향상
2. 교육개요
○ 일 자: 2022년 1월 19일(수) - 20일(목) 양일간
○ 장 소: 금오공과대학교 테크노관 201호, 공동실험실습관 408호
○ 대 상: 금오공과대학교 신소재공학부 대학원생 및 학부생
○ 모집인원: 최소 15명이상(교육비 무료)
※ 무료 교육이며, 코로나19 대응 정부 지침에 따라 최대 인원 제한이 있을 수 있습니다.
○ 주최 및 운영: 금오공과대학교 반도체연구소
○ 교육신청: 첨부된 파일의 서식을 작성 후, 담당자 이메일로 전송
○ 문의는 담당자 e-mail(emily@kumoh.ac.kr) 또는 054-478-6783으로 연락 바랍니다.
3. 수료안내
○ 이론 및 실습 교육 모두 참가시 수료증 발급
○ 교육 수료시‘금오공과대학교 반도체연구소’소장 명의 수료증 수여
※자세한 내용은 첨부된 파일 참조.