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2021학년도 반도체 단위 공정(포토리소그래피) 교육 계획 안내

작성자
백훈기
조회
1458
작성일
2021.11.19
첨부

2021년도 반도체단위공정(포토리소그래피) 교육 계획서_3차시.hwp

1. 교육목표

  ○ 교육목표 : 반도체 기본 공정 중 하나인 포토리소그래피 공정의 이론 교육을 통해 원리를 이해하고 실습 교육을 통해 장비에 대한 이해도 향상.

2. 교육개요

  ○ 일자 : 2021년 11월 26일(금)
  ○ 장소 : 금오공과대학교 산학협력관 603호, 공동실험실습관 506호
  ○ 대상 : 금오공과대학교 신소재공학부 학부생 및 대학원생
  ○ 모집인원 : 15명 (교육비 무료)
  ○ 주최 및 운영 : 금오공과대학교 반도체연구소
  ○ 교육 신청 및 문의는 e-mail(emily@kumoh.ac.kr)로 연락 바랍니다.

3. 수료안내
  ○ 이론 및 실습 교육 모두 참가시 수료증 발급
  ○ 교육 수료시 ‘금오공과대학교 반도체연구소’소장 명의 수료증 수여