대학원

대학원

HOME 대학원 연구실소개 정보전자재료공학

정보전자재료공학

나노구조재료 및 소자 연구실 (Nanostructured Materials and Devices Lab.)

연구실 소개

나노구조재료 및 소자 연구실은 첨단 나노공정기술 개발을 통해 유익한 광학적, 기계적, 전기적 물성이 발현된 나노구조재료를 제작하고, 이를 활용하여 다양한 차세대 나노소자를 구현하는 연구를 수행하고 있습니다.

주요 연구내용
  • 3차원 나노패터닝 (3D nanopatterning)
  • 3차원 나노구조재료 (3D nanostructured materials)
  • 3차원 나노구조소자 (3D nanostructured devices)
연구 관련 사진
대표 연구업적
주요수상
  • 재료연구소 우수논문상 (2015)
  • 한국다우케미칼 어워드 대상 (2014)
  • KAIST 대표연구성과 10선 (2012)
주요논문
  • J. Park et al., "3D nanostructured N-doped TiO2 photocatalysts with enhanced visible absorption", Nanoscale, 10 (20), 9747-9751 (2018)
  • J. Park et al., "Direct optical fabrication of fluorescent, multilevel 3D nanostructures for highly efficient chemosensing platforms", Advanced Functional Materials, 26 (39), 7170-7177 (2016)
  • J. Park et al., "Flexible near-field nanopatterning with ultrathin, conformal phase masks on nonplanar substrates for biomimetic hierarchical photonic structures", ACS Nano, 10 (4), 4609-4617 (2016)
  • J. Park et al., "Rapid, high-resolution 3D interference printing of multilevel ultralong nanochannel arrays for high-throughput nanofluidic transport", Advanced Materials, 27 (48), 8000-8006 (2015)
  • J. Park et al., "Rational control of diffraction and interference from conformal phase gratings: toward high-resolution 3D nanopatterning", Advanced Optical Materials, 2 (12), 1213-1220 (2014)
  • J. Park et al., "Conformal phase masks made of polyurethane acrylate with optimized elastic modulus for 3D nanopatterning", Journal of Materials Chemistry C, 2 (13), 2316-2322 (2014)
  • J. Park et al., "Three-dimensional nanonetworks for giant stretchability in dielectrics and conductors", Nature Communications, 3 : 916, 1-8 (2012)
  • J. Park et al., "Conformable solid‐index phase masks composed of high‐aspect‐ratio micropillar arrays and their application to 3D nanopatterning", Advanced Materials, 23 (7), 860-864 (2011)
  • J. Park et al., "Antireflection behavior of multidimensional nanostructures patterned using a conformable elastomeric phase mask in a single exposure step", Small, 6 (18), 1981-1985 (2010)
주요 특허
  • 생체 모방형 고신축성 전도성 건식 접착 패치, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 웨어러블 기기 (KR 10-1919906)
  • 3차원 신축성 네트워크 구조체 (KR 10-1902380)
  • 3차원 나노구조를 이용한 물질 고유 한계 이상의 고신축성 소재 및 이의 제조방법 (KR 10-1358988)